hellma光学材料的核心性能优势

　　Hellma-Materials的半成品产品涵盖微光刻、光学、激光技术和辐射探测等领域，而IVIROptics的锗和硅则用于红外光学（IR光学），特别是用于制造热成像相机、夜视设备和光谱系统的镜头和窗户。

　　锗因其在红外光谱范围（2至14微米）的高透射率，非常适合这些应用。硅因其良好的机械性能和高折射率，常用于红外光学中的透镜和镜面。这两种材料都有各种形状和尺寸，以满足不同应用的需求。

　　高纯度的合成晶体——德国制造：我们种植纯度的人造晶体，适用于光学、半导体、辐射检测和安全行业的应用。我们在熔体受控结晶方面的专业知识保证产品质量高。

　　Hellma（德国）的光学材料核心由旗下Hellma-Materials（晶体/玻璃）与HellmaAnalytics（分析用石英/玻璃）两大板块构成，以高纯度合成晶体、特种玻璃、石英为主，覆盖紫外到红外全波段，广泛用于光刻、激光、光谱、医疗等领域。

　　Hellma光学材料以氟化钙（CaF₂）晶体为代表，凭借跨紫外-可见-红外波段的高宽带透射率、低折射率、低光谱色散、出色的激光耐久性和抗辐照能力，成为精密光学、半导体制造、天文观测、激光技术及科研医疗等领域的核心材料。

　　氟化镁（MgF2HellmaMaterials的一种经过验证的光学材料

　　宽频传输：在紫外、可见性和红外频段的透射率。

　　低色散：大限度地减少色差。

　　对电离辐射的高抵抗：可用于太空。

　　低非线性折射率：非常适合高功率激光应用。

　　对多种化学蚀刻剂具有抗性，适合高要求的应用。

　　核心性能优势

　　宽透射波段

　　覆盖深紫外（130nm）至红外（8μm，部分资料显示可达9μm甚至10μm），满足真空紫外（VUV）、深紫外（DUV）、可见光及红外（IR）等多波段需求。

　　应用场景：半导体光刻（193nm、248nm）、紫外显微镜、红外传感器、热像仪镜头等。

　　低折射率与低色散

　　折射率（nd）为1.43384，阿贝数（vd）达95.23，显著减少色差，提升成像质量。

　　应用场景：天文望远镜、高清变焦镜头、显微镜等色校正光学系统。

　　激光耐久性

　　对157nm、193nm、248nm等准分子激光波长具有优异耐受性，适用于光刻激光光学器件和光束传输系统，延长组件寿命。

　　业务架构：Hellma旗下Hellma-Materials专注晶体/光学材料定制，HellmaAnalytics聚焦分析用石英/玻璃组件，另有系统集成与分销业务。

　　技术亮点：德国耶拿自有晶体生长产线，可定制大尺寸单晶（如CaF₂直径440mm），严控折射率均匀性与应力双折射；石英/玻璃组件支持高精度抛光、镀膜与尺寸公差（±0.01mm）。

　　认证与合规：符合ISO9001、ISO50001，材料适配SEMI、RoHS、REACH，部分产品通过FDA/USPClassVI医疗级认证

　　应用场景：高功率激光窗口、透镜、工业激光加工等。

　　抗辐照与环境适应性

　　抵抗高能粒子辐射，机械强度高且抗潮解，大气下使用温度达600℃，真空干燥时可达800℃。

　　应用场景：航空航天、核能设备、深海探测等环境。

　　质量控制与认证

　　产品通过ISO9001/14001质量管理体系认证及DAkkS认证，符合DINENISO/IEC17025标准要求。

　　每一批次产品均经过严格的光学性能、机械性能及环境稳定性检测，确保交付品质的一致性与可靠性。