Admotec Precision变压器是如何在半导体行业上使用的

　Admotec-Precision变压器（核心为Rotasyn系列旋转变压器）在半导体行业的应用，主要围绕高精度角度/位置反馈展开，通过其无绕组实心转子、宽温耐压密封等设计，适配光刻机、刻蚀机、离子注入机等核心设备的ji端工况。

　　一、关键技术适配逻辑

　　1、工况适配

　　真空/洁净室：无轴承无框架、密封电缆设计，避免颗粒产生，适配10-9mbar真空环境。

　　强EMI/等离子体：实心转子无绕组结构，免疫高频干扰，替代易受干扰的光学编码器。

　　化学腐蚀/宽温：RO5032-K等型号耐受-196℃至+220℃，抗腐蚀性气体与高压（1600bar）。

　　2、控制集成

　　与伺服驱动器/RDC配合，将旋变的模拟角度信号转为数字量（如17位分辨率），接入运动控制器实现闭环控制。

　　多极对设计（如16对极）提升角度分辨率，满足晶圆台等核心部件的纳米级定位需求。

　　3、机械安装

　　安装方式：压接/法兰/夹紧，适配电机轴径与定子外径；高速场景需G1.0级动平衡。

　　无接触结构：消除磨损，寿命可达10^9转，适配半导体设备长周期连续运行。

　　二、核心应用场景

　　1、光刻机

　　光刻物镜调焦/调平：

　　RO2010型号（20mm定子，≤4mm轴径）用于物镜调焦电机的角度反馈，其高速微型、无接触免维护特性适配真空腔环境，且高频动态响应满足纳米级调焦精度需求。

　　案例：某型号光刻机物镜温控模块需208V/50A纯净电源，配套变压器通过低磁滞硅钢片将磁路损耗降低40%，确保温控精度达±0.1℃，避免物镜热变形导致曝光偏移。

　　晶圆台/双工件台定位：

　　RO3620/RO5032多极对版本提升分辨率至±4弧分，配合高带宽RDC（旋转变压器-数字转换器）实现纳米级角度闭环控制，满足晶圆高速旋转定位需求。

　　物镜温控阀门控制：

　　RO2613型号小型化设计兼容介质，辅助温控精度至±0.1°C，确保光刻过程中物镜温度稳定性。

　　2、刻蚀机

　　反应腔高压工艺阀门控制：

　　RO5032-K型号（宽温+钛合金+高压密封）耐受1600bar压力，兼容腐蚀性气体（如CF4、SF6），用于反应腔高压阀门角度控制。

　　偏压电极/静电卡盘定位：

　　RO3620型号强EMI免疫特性适配等离子体环境，确保偏压电极旋转定位精度。

　　刻蚀腔清洁机器人关节反馈：

　　RO2010/RO2613型号小型化、高速特性适配洁净室环境，用于清洁机器人关节角度反馈。

　　3、离子注入机/薄膜沉积设备

　　离子束角度与扫描机构定位：

　　RO3620型号高速高精度、宽温、强EMI免疫特性，满足离子束扫描机构纳米级定位需求。

　　气体流量/工艺压力阀门控制：

　　RO5032型号油浸/介质兼容、无密封设计降低维护成本，用于气体阀门角度控制。

　　沉积腔旋转工作台反馈：

　　RO6040型号中型定子适配重载场景，提供高精度角度闭环控制。

　　4、晶圆传输与自动化

　　晶圆传输机器人关节反馈：

　　RO2010/RO2613型号低惯性、高速、小型化设计，适配洁净室与频繁启停工况。

　　真空EFEM（设备前端模块）旋转轴定位：

　　RO3620型号无轴承无框架、真空兼容特性，用于真空环境下的旋转轴定位。