Hellma-CaF₂晶体具备四大核心优势，精准解决国产激光设备痛点

       Hellma 总部坐落于德国耶拿光学谷，拥有近百年光学精密制造经验，旗下 Hellma Materials 专注光学晶体、精密光学元件研发生产，承袭原肖特（Schott Lithotec）光刻级晶体核心技术，是全球少数掌握端氟化钙（CaF₂）晶体规模化生产的企业之一。品牌秉持 “When every photon counts®" 的技术理念，以严苛的品控标准、的晶体生长与精密加工工艺，产品光谱覆盖 130nm 深紫外至 14μm 远红外全波段，远销全球数十个国家，在工业激光、精密光学等领域树立了 “高纯度、高均匀性、高稳定性" 。

二、核心产品：激光级光学晶体，适配国内全场景激光应用

1. 氟化钙（CaF₂）晶体：激光工业 “全能型核心材料"

• 超宽波段高透射：透光范围覆盖 130nm（深紫外）至 9μm（红外），193nm 波长下内透过率超 99.3%/cm，无明显吸收损耗，适配紫外、可见光、红外全波段激光系统，助力激光设备提升能量利用率。

• 超低色散高均匀性：折射率 nd=1.43384，阿贝数 vd=95.23，色散系数仅为普通光学玻璃的 1/5，可最大限度消除色差；折射率均匀性优于 0.5ppm@633nm，杜绝波前畸变，保障激光光束一致性与聚焦精度，适配激光打标、切割、精密雕刻等高精度场景。

• 超高激光耐久性：针对 157nm、193nm、248nm 准分子激光专项优化，激光损伤阈值超 10J/cm²@193nm，远高于石英玻璃及普通 CaF₂材料；长期高能量脉冲激光辐照下无烧蚀、无透射率衰减，应力双折射控制在≤0.5nm/cm，大幅延长激光谐振腔、窗口、聚焦透镜等核心器件寿命，降低设备维护成本。

• 优异热学与机械性能：热导率达 9.71W/(m・K)，可快速散除高功率激光产生的热量，避免热致畸变；大气下使用温度达 600℃，真空干燥时可达 800℃，机械强度高、抗潮解、耐化学腐蚀，适配工业现场复杂严苛工况。

2. 产品等级与定制服务：贴合国产激光设备差异化需求

• DUV 级（157–193nm）：超高均匀性（≤0.5ppm）、极低双折射（≤0.5nm/cm），适配深紫外准分子激光打标、微细加工设备。

• UV 级（193–400nm）：折射率均匀性≤1ppm，双折射≤1nm/cm，用于紫外激光雕刻、激光检测仪器。

• IR 级（0.78–9μm）：红外透过优化，适配高功率 CO₂激光切割、焊接设备及红外激光雷达。

  同时支持全流程定制服务：尺寸可定制 φ250mm 单晶、φ440mm 多晶，厚度最大 250mm；晶向可选 <100>、<111 > 等主流方向；表面可做研磨、抛光（λ/10、λ/20）、超精密抛光处理，可加工成圆盘、棱镜、透镜、窗口片等多种形态，无缝适配国产激光设备的差异化装配需求。

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三、国内激光工业核心应用场景

1. 激光加工设备

• 激光切割 / 焊接设备：IR 级 CaF₂晶体作为红外激光窗口、聚焦透镜，耐受高功率激光冲击，散热快、变形小，提升切割焊接精度与稳定性，适配金属板材、管材加工设备。

• 紫外激光打标 / 雕刻设备：DUV/UV 级 CaF₂晶体用于谐振腔镜、光束传输窗口，高激光耐久性保障长期连续工作，标记清晰、无边缘毛刺，广泛应用于电子元器件、五金、塑胶制品打标。

• 超快激光微细加工设备：低色散、高均匀性特性，适配飞秒 / 皮秒激光钻孔、蚀刻、微结构加工，保障加工精度达微米级，满足新能源、半导体等领域精密加工需求。

2. 激光检测与精密光学仪器

• 激光干涉仪、激光测长仪：CaF₂晶体作为核心光学元件，低应力双折射避免偏振畸变，保障测量精度，适配工业精密检测、计量设备。

• 激光粒度仪、光谱分析仪：高透射率、低色差特性，提升检测数据准确性，用于化工、建材、医药等行业颗粒检测与成分分析。

3. 激光设备核心组件

• 激光谐振腔：高均匀性保障光束模式稳定，提升激光输出功率与光斑质量。

• 光束传输系统：激光窗口、分束镜采用 LD-A 级激光耐久性晶体，长期工作无性能衰减，降低设备故障率。

四、选择 Hellma 的核心价值：助力国产激光产业降本增效

1. 提升设备性能上限：光学性能对标国际顶尖标准，助力国产激光设备突破精度、稳定性瓶颈，缩小与国际设备差距。

2. 降低全生命周期成本：高激光耐久性、长使用寿命，减少核心器件更换频率，降低设备停机维护时间，提升生产效率。

3. 适配国产产业升级：多等级、定制化服务，贴合国内中端激光设备研发生产需求，助力激光产业向高精度、高功率、高稳定性方向升级。