德国Hellma材料的CaF₂氟化钙的特性

　　德国Hellma材料的CaF₂（氟化钙）晶体是一种高性能光学材料，具有从深紫外到红外波段的高宽带透射率、低折射率、低光谱色散、出色的激光耐久性和抗辐照能力，广泛应用于精密光学、半导体制造、天文观测、激光技术及科研医疗等领域。

　　一、核心参数与关键性能（Lithotec®系列）

　　参数项数值应用价值

　　透射波段130nm–8μm（深紫外至红外）覆盖准分子激光、红外光学全链路

　　折射率（nd）1.43384低光学损耗，适配精密光学系统

　　阿贝数（vd）95.23低色散，减少色差，适合光刻/激光系统

　　折射率均匀性<5ppm确保光束一致性，满足微光刻高精度要求

　　晶体结构立方晶系，(111)解理面易定向切割，适配不同光学设计

　　热导率9.71W/(m·K)快速散热，适配高功率激光场景

　　激光耐久性157/193/248nm高抗损伤准分子激光光刻长期稳定使用

　　二、核心光学特性

　　高宽带透射率

　　透光范围覆盖130nm（深紫外）至8μm（红外），部分资料显示可达9μm，甚至10μm，满足真空紫外（VUV）、深紫外（DUV）、可见光及红外（IR）等多波段需求。

　　在193nm（深紫外光刻）波长下，内透过率超过99.3%/cm，应力双折射小于5nm/cm，确保光刻机物镜系统的精度。

　　低折射率与低色散

　　折射率nd=1.43384，阿贝数vd=95.23，低色散特性使其在色校正光学系统中（如天文望远镜、高清镜头）能显著提升成像质量。

　　激光耐久性

　　对157nm、193nm、248nm等准分子激光波长具有优异耐受性，适用于光刻激光光学器件和光束传输系统，延长组件寿命。

　　抗辐照与耐环境性

　　抵抗高能粒子辐射，适用于航空航天等恶劣环境；大气下使用温度达600℃，真空干燥时可达800℃，机械强度高且抗潮解。

　　三、Hellma材料典型应用领域

　　半导体制造

　　作为248nm与193nm微光刻技术中照明和投影光学的行业标准材料，直接支撑45nm以下芯片制程精度。

　　天文与空间光学

　　用于高分辨率空间相机、天文望远镜的光学元件，以及天基光学器件（如卫星载荷），其低应力双折射特性确保信号传输完整性。

　　激光技术

　　激光谐振腔镜、医用激光器（如光学相干断层成像设备）的核心材料，适配193nm、248nm等准分子激光波长。