解决深紫外光学痛点｜Hellma氟化钙，高透、耐激光辐照、低荧光干扰

　　德国Hellma氟化钙CaF₂单晶，源自德国耶拿光学基地原生生长工艺，是全球精密光学、半导体光刻、高功率激光及航天科研领域的级光学晶体。凭借超高纯度、超低色散、宽光谱透过与优异激光稳定性，成为精密设备升级与进口替代的核心优选材料。

　　Hellma氟化钙拥有130nm–9μm超宽透光区间，覆盖真空紫外、可见光至中红外波段，弥补石英晶体无法覆盖深紫外与中红外的短板。产品经过精密高温退火处理，具备极低应力双折射、高光学均匀性，色差抑制效果优异，可显著提升光学系统成像精度与检测稳定性，适合长期高精度连续工作场景。

　　相比普通氟化钙，Hellma原厂CaF₂晶体激光损伤阈值更高、荧光极低、抗辐照性能优异，在高能量激光冲击与真空端环境下性能衰减小、寿命更长，是光学设备稳定运行的关键基材。支持大尺寸毛坯、多晶及单晶定制，可加工窗口片、棱镜、透镜基片，适配超精抛光与特殊镀膜工艺。

　　产品落地应用覆盖多个工业场景：半导体行业批量用于193nm/248nmDUV光刻物镜、照明光路与激光谐振腔窗口，保障芯片微纳制程高精度输出；精密分析仪器领域，作为FTIR红外光谱、紫外拉曼检测设备核心窗口，杜绝背景干扰，提升检测重复性；激光工业用于准分子激光、医用激光设备光束传输组件与真空隔离窗口；同时广泛配套航天卫星载荷、天文观测仪器、真空科研设备等领域。

　　全系德国原厂进口，每批附带完整COC原厂检测报告，参数可溯源。稳定的批次一致性、成熟的定制加工能力，让Hellma氟化钙成为国内外光学项目、精密科研及半导体设备厂商的长期光学晶体材料。

　　Hellma氟化钙｜低色差高均匀性光刻/激光/航天专用光学晶体

　　德国Hellma氟化钙CaF₂单晶，是深紫外至红外光学系统的核心专用材料，主打超低色差、超高光学均匀性、低应力双折射，专为半导体光刻、高功率激光、航天空间光学三大场景定制，是目前精密光学领域稳定性与一致性顶尖的进口氟化钙晶体。

　　Hellma氟化钙具备的低色散性能，阿贝数高达95.23，远优于常规光学玻璃，可大幅抑制系统色差、消除波长偏移误差，让成像与光路传输更精准。同时材料折射率均匀性＜5ppm、应力双折射≤0.5nm/cm，内部光学一致性，无波前畸变、无局部光学偏差，满足高精度光学设备的严苛光路要求。

　　产品拥有130nm–9μm超宽光谱透过能力，深紫外透过率优异，在193nm、248nm准分子激光波段损耗极低、激光损伤阈值高，可长期耐受高能激光持续辐照，稳定不衰减、不老化。同时具备低荧光、抗辐射、高低温性能稳定等优势，适配地面精密设备与太空工况。

　　核心专项应用落地明确：

　　光刻领域，用于193nmDUV光刻物镜、照明光路、谐振腔窗口，保障芯片微纳制程精度；

　　激光领域，适配准分子激光、医用激光、精密检测激光光路窗口与基底；

　　航天领域，批量用于卫星载荷窗口、空间望远镜、航空探测光学元件，抗太空辐照、性能长期稳定。

　　全系德国原厂生长退火，批次一致性强，可提供毛坯、精磨基板、超精抛光窗口及定制晶向加工，每批附带原厂COC检测报告，参数可溯源，是学精密项目低色差、高均匀性氟化钙的优选进口材料。