Hellma氟化钙窗口片 应力双折射≤0.5nm/cm光谱仪航天光学晶体材料

　　德国Hellma氟化钙CaF₂窗口片，采用坩埚下降法原生单晶生长，经过高温精密退火处理，**应力双折射≤0.5nm/cm，折射率均匀性优异，有效降低波前畸变，是光谱仪器、航天空间光学、深紫外激光系统的高性能晶体元件。

　　该窗口片透光覆盖130 nm‑9 μm，从真空紫外延伸至中红外波段，深紫外透过表现出众，低色散、低荧光，可规避光谱检测时的背景噪声干扰。相较于普通氟化钙产品，Hellma原厂材料内部应力控制严苛，内部缺陷少，批次性能高度一致，避免因残余应力造成成像偏移、测量误差，满足高精度光学系统对光路稳定性的硬性指标。

　　高激光损伤阈值、抗电离辐射的材料特性，使其适配多类严苛工况。

　　应用场景：各类FTIR傅里叶红外光谱仪、紫外‑可见分光光度计、拉曼分析设备的光学窗口；航天卫星载荷、空间探测仪器窗口，抵御太空辐照环境；同时适配193/248nm准分子激光、半导体光刻配套光路窗口、真空设备观察窗。

　　供货形态包含精磨毛坯、成品抛光窗口片，支持定制晶向、尺寸、表面质量，可配套AR增透膜等镀膜方案。德国原厂出品，每批次附带COC检测证书，应力双折射、透过率、均匀性等关键参数均可溯源，适合科研机构、仪器厂商、航天及半导体企业选型采购。

　　1.精密光谱分析仪器

　　Hellma氟化钙窗口片是FTIR红外光谱、紫外光谱、拉曼光谱、微量荧光检测设备的标配光学窗口。

　　普通玻璃、石英无法透过中红外波段，且自带荧光干扰、折射率不均，会造成基线漂移、检测误差。HellmaCaF₂窗口片低荧光、无背景干扰、130nm–9μm全波段通透，搭配极低应力双折射特性，光路稳定性，可保证每一次光谱扫描基线平直、重复性高。广泛用于材料成分分析、气体检测、环境监测、医药检测、化工高精度光谱分析设备，分析仪器厂商的核心光学配件。

　　2.半导体DUV光刻光学系统（高精度制程场景）

　　专为193nm/248nm准分子激光光刻**设计，是先进制程光刻设备的关键基材。

　　光刻光路对波前畸变、色差、均匀性要求高，Hellma氟化钙经过精密退火，应力双折射≤0.5nm/cm，折射率均匀性，可大幅抑制光路色差与成像偏移。广泛用于光刻投影物镜、照明系统镜片、激光谐振腔窗口、真空隔离窗口，稳定支撑7nm–45nm芯片微纳制程精度，长期高能量激光辐照下不衰减、不畸变，是国际主流光刻设备的标准材料。

　　3.高功率准分子激光与深紫外激光设备

　　适用于ArF、KrF准分子激光、深紫外加工激光、科研高能激光系统。

　　Hellma氟化钙具有高激光损伤阈值、低非线性折射率、抗紫外老化优势，高能激光持续冲击下不会产生应力形变、光斑畸变。常用于激光输出窗口、真空腔密封窗口、光束整形镜片、激光检测光路，解决普通光学材料容易烧点、老化、透光衰减的问题，适合工业精密加工、科研激光、医疗激光设备长期稳定运行。

　　4.航天航空&空间天文光学

　　空间光学设备长期面对太空辐射、高低温交变、真空环境，普通晶体容易性能漂移、产生双折射偏差。

　　Hellma氟化钙窗口片抗辐照、性能稳定、无应力漂移、超低光学畸变，可长期在轨稳定工作。广泛应用于卫星探测窗口、空间望远镜、深空紫外探测载荷、航空光学检测系统，是国内航天科研院所、天文观测项目常用的进口光学晶体窗口。

　　5.真空设备&科研光学

　　适配真空紫外腔体、高能物理实验设备、精密真空检测窗口。

　　宽光谱透过、低放气、高洁净、光学一致性高，满足高校实验室、科研单位、精密设备研发需求。